光伏、半导体、太阳能行业

　　臭氧应用在半导体行业中，CVD膜成型技术使用形成硅氧化膜，**膜的平面性。利用臭氧溶于水的氧化性和·OH的双重作用，降低化学品消耗、处理成本以及提高清洁效率，在芯片制造过程中，臭氧主要用于半导体晶片、LCD(液晶显示)用玻璃基板、精密光学零件基板，消除有机物、金属和颗粒，去除光刻胶(臭氧抛光)，并对去离子水设施进行消毒，疏水性转变为亲水性。

　　臭氧应用在光伏行业中硅晶片的表面结构化(俗称制绒)的预清洗和后清洗，取消对应槽体双氧水和碱的使用，降低成本和环保;单晶硅PERC使用臭氧水+盐酸的方式;臭氧氧化生成SiO2钝化薄膜，增强硅晶片的抗PID效应能力。