在芯片制造过程中,臭氧主要用于清洁晶圆;消除有机物、金属和颗粒;去除光刻胶;消毒去离子水设施。臭氧清洗总是涉及氧化,工艺···
了解详情在过去的几年中,臭氧在半导体工业的应用越来越受到重视,特别是在晶圆清洗过程。在半导体行业,清洁度是一个**的要求。即使是···
了解详情水环境保护是当前人类社会广泛关注的一个问题,随着我国国民经济的快速发展,高浓度的有机废水对我国宝贵的水资源 造成了威胁。然···
了解详情臭氧消毒优点1、消毒无死角,杀菌效率高,除异味。消毒进行时臭氧发生装置产生臭氧,在相对密闭的环境下,扩散均匀,通透性好,克···
了解详情气体溶解于水时,如气体和水中物质不起反应,又不电离,又不处特别高压,**温度下气体溶解度和其气体的分压成正比,即遵循亨利···
了解详情工业级臭氧发生器,高浓度臭氧和臭氧水,20-50ppm,臭氧浓度大于300mg/L高浓度臭氧发生器300mg/L ,臭氧水50ppm,德国BMT963臭氧···
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